在薄膜生长、界面演化、材料相变与器件研究中，很多真正关键的信息，并不只体现在“看见”变化，而在于能否准确捕捉光学响应随温度变化的细微过程。

和创联合科技推出的MCLS650EL椭圆偏振冷热台系统，面向高端原位光学测试场景打造，将宽温域精准控温能力与椭圆偏振测量平台深度结合，可实现样品在不同温度环境下的原位椭圆偏振分析，为薄膜、界面及表面性质研究提供更高精度、更高效率的测试支撑。该系统支持在-195℃至650℃ 的宽温区内稳定运行，并兼容多种腔内环境控制方式，满足科研与先进材料开发中的多样化需求。

一台设备，连接温度控制与椭偏分析

椭圆偏振光谱是一种无损、无接触的光学测量技术，通过分析偏振光经样品反射后偏振态的变化，可获得薄膜厚度、界面结构、表面粗糙层以及光学常数等关键信息，测量厚度范围可覆盖从几埃到几十微米。MCLS650EL基于标准椭圆偏振测量平台开发，专为温度相关椭圆偏振测试而设计，能够帮助用户在加热、冷却和环境变化过程中，持续追踪样品光学性质的动态演变。

宽温区、快响应，也能细致观察关键变化

MCLS650EL 支持-195℃~650℃的宽温域控制，升温速率最高可达150℃/min，冷却速率最高可达100℃/min。这意味着它既能够满足快速升降温条件下的高效筛查，也能在接近目标温度时通过更低速率进行精细调控，帮助研究人员更从容地观察样品在临界过程中的微小变化。无论是快速分析材料响应，还是长时间跟踪缓慢演化过程，都能兼顾效率与精度。

稳定控温，为高质量原位测试提供基础

对于椭圆偏振这类高灵敏光学测量而言，控温精度和稳定性直接影响数据可信度。MCLS650EL采用PID控温方式，配备PT100 A级温度传感器，温度分辨率达到0.001℃；其中在 室温至650℃区间内温度稳定性可达±0.02℃，在低温区间也具备良好的控制能力。这样的温控表现，为高重复性、高一致性的原位测试提供了扎实保障。

为椭圆偏振测量而优化的光路设计

MCLS650EL是一个带有光学窗口的独立系统，可在70°入射角 条件下开展椭圆偏振测量，适配标准椭圆偏振仪使用；同时，它也可作为开放式系统运行，以适应其他入射角需求。系统采用 石英窗口，顶部与侧部窗口通径均为7 mm，并可根据需求选配其他窗口材质，为不同光谱范围与应用场景保留灵活扩展空间。

多种腔内环境，拓展更多应用可能

在温度之外，样品所处环境同样会影响测试结果。MCLS650EL 支持密闭大气环境，并可选配真空、保护气氛及湿度控制功能，同时还提供 电探针选项，使系统能够覆盖更多材料表征与器件研究需求。对于需要同步考虑温度、环境与电学因素的复杂实验，这种扩展能力尤为重要。

小巧紧凑，更适合集成到现有测试平台

MCLS650EL采用紧凑型结构设计，台体尺寸约135×95×40 mm，重量约800 g，样品台面为φ20 mm，样品台材质为银，在保证热性能与光学适配能力的同时，也更便于集成到现有椭偏测试系统与原位表征平台中。系统在高温运行时支持外壳水冷，进一步提升设备运行的安全性与稳定性。

不只是冷热台，更是原位椭偏测试的重要平台

从薄膜厚度监测，到界面变化分析；从材料热响应研究，到器件性能表征，MCLS650EL 椭圆偏振冷热台系统不仅是一台具备宽温区控温能力的冷热台设备，更是连接温度变量与光学信息的重要原位测试平台。

和创联合科技致力于为先进材料、半导体、薄膜工艺与科研用户提供更可靠、更灵活的原位测试解决方案。MCLS650EL 的推出，正是为了让用户在复杂实验条件下，不只是“看到变化”，更能读懂变化背后的光学与材料信息。

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