近日，和创联合科技完成了MCLS650V 真空冷热台在太原理工大学现场交付工作。本次交付系统与卓立汉光OmniFluo900 稳态瞬态荧光光谱仪联用，用于实现材料在不同温度条件下的光谱变温表征，为科研实验提供稳定、可靠、宽温区的原位温控平台。

在交付现场，MCLS650V 真空冷热台完成了与显微/光谱测试系统的集成安装。设备结构紧凑，可适配实验室现有光学平台与光谱测试环境，在不改变核心测试流程的基础上，为样品引入精准可控的温度变量。

MCLS650V 具备 -195℃ 至 650℃ 的宽温度范围，覆盖深低温至高温测试需求；温度稳定性可达 ±0.02℃，温度分辨率达 0.001℃，可满足荧光光谱、材料相变、低温发光、热响应特性等实验对温控精度和稳定性的要求。

在低温测试环节，系统表现出优异的控温性能，其在-190℃ 条件下的温度控制曲线，体现出 MCLS650V 在深低温环境下依然具备良好的温度稳定性和可重复控制能力。

作为一款面向光谱、显微与材料表征场景的真空冷热台，MCLS650V 具有体积小、重量轻、温控范围宽、升降温速率灵活等特点。其升降温速率支持 0.1–150℃/min，可根据不同样品和实验方案灵活设置，为科研用户提供更高效、更可控的实验条件。

此次 MCLS650V 在太原理工大学的顺利交付，不仅体现了和创联合科技在原位温控与光谱测试集成方面的技术能力，也进一步拓展了 MCLS650V 在高校科研平台中的应用场景。未来，和创联合科技将继续围绕材料科学、光电表征、低温光谱、原位测试等科研需求，为用户提供更专业的设备集成与技术支持服务。